产品型号：STQ-8-12

炉膛尺寸：200 x300*120mm

额定温度：1200℃

控温精度：±1℃

应用领域：箱式气氛炉炉体法兰式密封结构，在材料的热处理过程中，可以通入氮气、氩气、氧气等保护气体，用于碳材料、金属材料、生物质材料的热处理，也可用于锂电池三元材料的烧结。

产品型号：STM-36-14PRO

炉膛尺寸：300*400*300mm

额定温度：1400℃

控温精度：±1℃

应用领域：1400℃马弗炉(箱式电阻炉)应用于高等院校、科研院所、工厂企业、石油化工、航空航天等行业的金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域的烧结和高温热处理。

产品型号：STM-12-17

炉膛尺寸：200*300*200mm

额定温度：1700℃

控温精度：±1℃

应用领域：1700℃马弗炉(箱式电阻炉)应用于高等院校、科研院所、工厂企业、石油化工、航空航天等行业的陶瓷材料、纳米材料、半导体材料、粉末冶金等新材料领域的烧结和高温热处理。

产品型号：STGX-100-12

炉管尺寸：Φ100×1200mm

额定温度：1200℃

控温精度：±1℃

应用领域：该产品广泛应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料、粉末冶金等新材料领域的烧结和高温热处理

产品型号：STS-8-17

炉膛容积：8L

额定温度：1700℃

控温精度：±1℃

应用领域：主要应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域

产品型号：STS-8-18

炉膛容积：8L

额定温度：1800℃

控温精度：±1℃

应用领域：主要应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域

产品型号：STS-8-17

炉膛容积：8L

额定温度：1700℃

控温精度：±1℃

应用领域：主要应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域

产品型号：STG-80-12-8

额定温度：1200℃

控温精度：±1℃

应用领域：1200℃高通量管式炉，此款产品适用于实验室批量样品高通量实验工艺，8个炉膛可独立控温，炉膛采用新型的轻质陶瓷纤维材料作为内衬，电阻丝镶嵌设计，升温速度快，温场均匀性好，采用集成式的人机交互智能PID控温仪表，可编15组30个程序段，自动升温，自动保温；采用高品质石英管配合不锈钢密封法兰，可对炉管进行预备抽真空，也可通入流动性保护气氛，实现真空和气氛下的样品批量热处理

产品型号：STG-100-17Q

炉膛尺寸：Φ100x1000mm

额定温度：1700℃

控温精度：±1℃

应用领域：STG-100-17Q 氢气还原管式电阻炉应用于高等院校、科研院所、工厂企业、石油化工、航空航天等行业的金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料、粉末冶金等新材料领域的烧结和高温热处理。

产品型号：STG-60-17Q

炉管尺寸：Φ60×1000mm

额定温度：1700℃

控温精度：±1℃

应用领域：该产品广泛应用于3D增材制造、新能源材料和粉末新材料行业的中试烧结和产品批量热处理

产品型号：STGC-80-12

炉管尺寸：Φ80×800mm

额定温度：1200℃

控温精度：±1℃

应用领域：化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料

产品型号：STGC-60-17

炉管尺寸：Φ80×1000mm

额定温度：1700℃

控温精度：±1℃

应用领域：化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料